Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵

簡要描述：

Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵采用 TwisTorr 拖動技術(shù)和安捷倫懸浮軸承，具有高性能、高可靠性及經(jīng)濟(jì)性。TwisTorr 704 FS 泵*的軸承和干式潤滑劑設(shè)計，使得泵無需泵油和維護(hù)，能夠以任意方向安裝?？蛇x擇一體式控制器或機(jī)架控制器。

型號
更新時間	2020-08-14
訪問次數(shù)	2477

詳細(xì)介紹

Agilent TwisTorr 704 FS 高真空渦輪分子泵采用 TwisTorr 拖動技術(shù)和安捷倫懸浮軸承，具有高性能、高可靠性及經(jīng)濟(jì)性。TwisTorr 拖動技術(shù)對小分子氣體（如氫氣和氦氣）能提供高壓縮比，從而實現(xiàn)大抽氣量和高前級耐壓，進(jìn)而能使用更經(jīng)濟(jì)實惠、更小型的前級泵。該技術(shù)使得轉(zhuǎn)子能采用緊湊的設(shè)計，變得高效節(jié)能，并能保持較低的工作溫度。安捷倫懸浮軸承系統(tǒng)降低了噪音和振動，并能保證*的軸承工作條件，從而能延長工作壽命，zui大程度減少系統(tǒng)停機(jī)時間，并能確保長時間穩(wěn)定的抽氣性能。TwisTorr 704 FS 泵*的軸承和干式潤滑劑設(shè)計，使得泵無需泵油和維護(hù)，能夠以任意方向安裝。可選擇一體式控制器或機(jī)架控制器。

Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵特性：

創(chuàng)新的 TwisTorr 技術(shù) — 對小分子氣體的高壓縮比實現(xiàn)了高性能和zui小的系統(tǒng)占用空間。

高前級耐壓 — 允許使用更小的前級泵，從而降低了系統(tǒng)成本和尺寸。

安捷倫懸浮軸承系統(tǒng) — 低振動、低噪音和*軸承工作條件可延長泵的使用壽命，從而實現(xiàn)使用維護(hù)成本優(yōu)化，zui大程度減少系統(tǒng)停機(jī)時間，并保證長時間穩(wěn)定的抽氣性能。

*的軸承和干式潤滑劑 — 免維護(hù)、免油，實現(xiàn)任意角度安裝。

“三維”泵控制軟件使靈活性、速度和簡便性達(dá)到zui大化，可在泵的操作條件下達(dá)到*通量和壓縮性能。

典型渦輪泵應(yīng)用

安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵，其設(shè)計旨在實際應(yīng)用中達(dá)到*性能。泵的緊湊型設(shè)計滿足工業(yè)中的嚴(yán)苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護(hù)，并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設(shè)備制造商，安捷倫均可針對您的應(yīng)用為您提供幫助和支持，或定制適合您的需求的系統(tǒng)。

Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵典型渦輪泵應(yīng)用：

領(lǐng)域	詳細(xì)說明	應(yīng)用
質(zhì)譜和分析儀器	針對質(zhì)譜系統(tǒng)優(yōu)化的全系列泵和控制器具有多入口泵組的定制泵低成本、易于使用、高分析性能對于 GC/MS，提供用于相對低氣體載荷環(huán)境的 1 個真空室和用于分析無機(jī)樣品的中等真空接口對于 LC/MS，需要提供多室、高通量真空系統(tǒng) 對于 ICP-MS，提供多種真空系統(tǒng)，包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池對于 TOF 系統(tǒng)，需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設(shè)備	質(zhì)譜 GC/MS LC/MS ICP-MS TOF
科研中的真空應(yīng)用	非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV 粗真空軸承未暴露于 UHV，降低了污染高速和高壓縮可以以任意角度安裝聯(lián)用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體	高能物理融合技術(shù) 一般 UHV 研究同步光源粒子加速器
工業(yè)真空加工	為薄膜沉積應(yīng)用而專門設(shè)計的集成分子泵解決方案適用于原始設(shè)備制造商和終端用戶的專業(yè)性能適用于具有預(yù)真空鎖或大型內(nèi)聯(lián)連續(xù)系統(tǒng)的單室批量系統(tǒng)和多室系統(tǒng)的泵	薄膜沉積：玻璃涂層設(shè)備（建筑和汽車玻璃，平板顯示器）薄膜太陽能電池生產(chǎn)（光電）光學(xué)數(shù)據(jù)介質(zhì)（CD、DVD、磁光光盤）磁性存儲介質(zhì) 表面處理光學(xué)涂層（眼科、精密光電）膜或箔上的輥式/卷繞涂覆設(shè)備加工：生產(chǎn)電視機(jī)和顯示器顯像管疏散燈（高速公路照明、投影機(jī)） X 射線管和電子設(shè)備一般工藝：真空爐/冶金
納米技術(shù)儀器	分析從有機(jī)化合物到半導(dǎo)體晶片等各類物質(zhì) 全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴(yán)苛的 SEM、TEM 和表面分析系統(tǒng) 低振動渦旋泵適用于zui敏感的顯微分析可快速、無油式排空大型樣品室內(nèi)的氣體集成的泵控制器可靈活進(jìn)行控制，幾乎不生成電磁噪音非常適合為半導(dǎo)體生產(chǎn)創(chuàng)造合適環(huán)境高轉(zhuǎn)速確保能夠以高泵速抽空半導(dǎo)體生產(chǎn)中釋放的輕質(zhì)氣體（He、H）符合高速循環(huán)應(yīng)用的嚴(yán)格要求，例如真空裝載鎖通過對多個渦旋泵聯(lián)用一個前級泵，可提高工具的可靠性聯(lián)用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設(shè)備放置于遠(yuǎn)處	電子顯微鏡（SEM、TEM）聚焦離子束系統(tǒng) (FIB) 表面分析半導(dǎo)體制造

性能指標(biāo)：

抽速：	ISO 160/CF 8 英寸
N2 He H2 Ar	660 L/s 640 L/s 480 L/s 625 L/s
全轉(zhuǎn)速氣體流量（使用推薦的推薦前級泵）*	環(huán)境溫度 (25 °C)	水溫： (25 °C，50 L/h)
He	7.9 mbar L/s 467 SCCM	10.4 mbar L/s 615 SCCM
N2	4.3 mbar L/s 255 SCCM	6.2 mbar L/s 367 SCCM
Ar	1.5 mbar L/s 89 SCCM	3.3 mbar L/s 195 SCCM
*() 前級泵 11.6 m3/h**
壓縮比與前級耐壓關(guān)系*
N2 He H2 Ar	> 1E + 11 2E + 08 3E + 06 1E + 11	10 mbar 10 mbar 4 mbar 8.5 mbar
*() 前級耐壓定義為，在水冷模式下，當(dāng)渦輪泵仍能產(chǎn)生 100 的壓縮比時的壓力**
采用推薦前級泵時的極限真空	< 1 × 10-10 mbar (< 1 × 10-10 Torr)
抽氣口法蘭	ISO 160K，ISO 160F，CFF 8 英寸
前級管道法蘭	NW25（NW40 為可選附件）
推薦的前級泵	DS302 IDP10 IDP15
工作位置	任意
操作環(huán)境溫度	+5 °C 至 +35 °C
潤滑	yognjiu性脂潤滑
冷卻要求
風(fēng)冷	空氣溫度由 +5 °C 至 35 °C
水冷	水溫由 +15 °C 至 +25 °C 水流速zui低 100 L/h
噪音壓力級別（全速運(yùn)行時距離 1 m 處）（磅）：	43 dB(A)